[发明专利]双面复眼透镜成像晶片及其制备工艺在审
| 申请号： | 201710632636.1 | 申请日： | 2017-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN107193064A | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 邓杨;梦君 | 申请（专利权）人： | 邓杨 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙)11368 | 代理人： | 仲伯煊 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及双面复眼透镜成像晶片及其制备工艺。双面复眼透镜成像晶片，包括透明基底，在透明基底的一侧通过微纳光刻的方式设有图形层，在图形层的外侧通过注塑的方式设有第一微透镜阵列，在透明基底的另一侧通过注塑的方式设有第二微透镜阵列。双面复眼透镜成像晶片的制备工艺，包括以下步骤(1)制备微透镜阵列模芯；(2)预处理；(3)制备图形层；(4)将透明基底置于做好微透镜阵列模芯的高速注塑机上，在透明基底的两侧加工注塑出第一微透镜阵列和第二微透镜阵列，得到双面复眼透镜成像晶片。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 复眼 透镜 成像 晶片 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
双面复眼透镜成像晶片，其特征在于，包括透明基底，在所述透明基底的一侧通过微纳光刻的方式设有图形层，在所述图形层的外侧通过注塑的方式设有第一微透镜阵列，在所述透明基底的另一侧通过注塑的方式设有第二微透镜阵列。
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