[发明专利]目标处理单元有效
| 申请号： | 201710637657.2 | 申请日： | 2014-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN107272352B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | J.J.科宁;D.J.范登伯根 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01J37/10;H01J37/20;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种目标处理单元(10)，包括：用于容纳待处理目标的真空腔室(30)；在所述真空腔室(30)内的投影列(46)，用于生成射束并将所述射束朝向所述目标(31)投影；在所述真空腔室(30)内的设备；管线(26、37、60)，用于将投影列连接至在所述真空腔室(30)外部的相应设备(22)；和与所述管线(26、37、60)不同的另外的管线(110)，用于将所述设备连接至在所述真空腔室(30)外部的相应设备(22)，其中所述管线(26、37、60)延伸穿过所述真空腔室的上侧，并且其中所述另外的管线(110)延伸穿过所述真空腔室的下侧。 | ||
| 搜索关键词： | 目标 处理 单元 | ||
【主权项】：
一种目标处理单元(10)，包括：‑用于容纳待处理目标的真空腔室(30)；‑在所述真空腔室(30)内的投影列(46)，用于生成射束并将所述射束朝向所述目标(31)投影；‑在所述真空腔室(30)内的设备；‑管线(26、37、60)，用于将投影列连接至在所述真空腔室(30)外部的相应设备(22)；和‑与所述管线(26、37、60)不同的另外的管线(110)，用于将所述设备连接至在所述真空腔室(30)外部的相应设备(22)，其中所述管线(26、37、60)延伸穿过所述真空腔室的上侧，并且其中所述另外的管线(110)延伸穿过所述真空腔室的下侧。
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