[发明专利]阵列基板的制造方法、阵列基板及显示面板有效

专利信息
申请号: 201710640506.2 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN107393933B 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 宋振;王国英 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示面板,属于显示技术领域。该方法包括:在衬底基板上形成有源层;在有源层上依次形成第一栅绝缘图形和栅极图形;在栅极图形上依次形成层间绝缘层和源漏极图形;其中,第一栅绝缘图形的上表面形成有凸起结构,栅极图形的下表面形成有与凸起结构形状匹配的凹槽结构,栅极图形在衬底基板上的正投影覆盖第一栅绝缘图形在衬底基板上的正投影。本发明通过栅极图形在衬底基板上的正投影覆盖第一栅绝缘图形在衬底基板上的正投影,有效的提高了TFT的开态电流。本发明用于显示面板中。
搜索关键词: 阵列 制造 方法 显示 面板
【主权项】:
一种阵列基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:在衬底基板上形成有源层;在所述有源层上依次形成第一栅绝缘图形和栅极图形;在所述栅极图形上依次形成层间绝缘层和源漏极图形;其中,所述第一栅绝缘图形的上表面形成有凸起结构,所述栅极图形的下表面形成有与所述凸起结构形状匹配的凹槽结构,所述栅极图形在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一栅绝缘图形在所述衬底基板上的正投影。
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