[发明专利]质谱检漏设备在审

专利信息
申请号: 201710640780.X 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN109323816A 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 龙超祥 申请(专利权)人: 深圳市远望工业自动化设备有限公司
主分类号: G01M3/20 分类号: G01M3/20
代理公司: 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 代理人: 孙大勇
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种质谱检漏设备,包括支撑架、真空腔体、升降机构、安全保护装置、示踪气体源、质谱检漏装置及控制装置;所述升降机构包括轴承、连接轴、齿轮、带轮、配重块及气缸,所述轴承固定在所述支撑架上,所述连接轴与所述轴承相连,所述齿轮套设在所述连接轴上,所述带轮与所述齿轮啮合相连,所述带轮的一端与所述真空腔体相连,所述带轮的另一端与所述配重块相连,所述气缸的一端固定在所述支撑架上,所述气缸的另一端与所述真空腔体相连;所述安全保护装置包括:光栅传感器、到位缓冲器、缓冲器挡板及缓冲块;本发明具有气密性优良、安全性能优及真空腔体开合稳定及等优点。
搜索关键词: 真空腔体 带轮 连接轴 支撑架 气缸 缓冲器 安全保护装置 检漏设备 升降机构 配重块 质谱 轴承 光栅传感器 示踪气体源 挡板 安全性能 齿轮啮合 检漏装置 控制装置 轴承固定 齿轮套 缓冲块 气密性 齿轮 开合 种质
【主权项】:
1.一种质谱检漏设备,用于检测待测箱体的气密性,其特征在于,其包括:支撑架、真空腔体、升降机构、安全保护装置、示踪气体源、质谱检漏装置及控制装置;所述真空腔体放置在所述支撑架上,所述真空腔体内设置有用于容纳所述待测箱体的容纳腔;所述升降机构设于所述支撑架上,用于驱动所述真空腔体的结合与分离;所述升降机构包括带轮、配重块及气缸,所述带轮活动连接在所述支撑架上,所述带轮的一端与真空腔体相连,所述带轮的另一端与所述配重块相连,所述气缸的一端固定在所述支撑架上,所述气缸的另一端与所述真空腔体相连,用于带动所述真空腔体运动;所述安全保护装置设置在真空腔体外侧,用于在所述真空腔体的结合与分离过程中进行安全保护;所述安全保护装置包括:到位缓冲器及缓冲器挡板;所述缓冲器挡板固定于所述真空腔体上,用于在所述真空腔体即将运动到预定位置时,与所述到位缓冲器相抵持,以使所述真空腔体缓慢地到达预定位置;所述示踪气体源用于为所述待测箱体提供示踪气体;所述质谱检漏装置与所述真空腔体导通连接,用于检测容纳腔内的所述示踪气体含量,从而判断所述待测箱体是否合格;所述控制装置用于控制所述升降机构、示踪气体源及质谱检漏装置工作。
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