[发明专利]低缺陷多孔抛光垫

摘要

抛光垫适用于使用抛光流体以及所述抛光垫与半导体、光学和磁衬底中的至少一个之间的相对运动来抛光或平面化半导体、光学和磁衬底中的所述至少一个。抛光层具有开孔聚合基质、抛光表面，所述抛光层中的多个凹槽。多个凸出槽脊区域用从所述底部多个凸出槽脊区域向外并且向下延伸的锥形支撑结构支持。所述多个凸出槽脊区域具有小于所述多个凹槽的平均宽度的平均宽度，以便减少所述凸出槽脊区域的抛光停留时间并且增加所述凹槽区域的碎屑去除停留时间到大于所述抛光停留时间的值。

主权项

1.一种抛光垫，其适用于使用抛光流体以及所述抛光垫与半导体、光学和磁衬底中的至少一个之间的相对运动来抛光或平面化半导体、光学和磁衬底中的所述至少一个，所述抛光垫包括以下各项：具有开孔聚合物基质、抛光表面和厚度的抛光层，所述开孔聚合物基质具有垂直孔隙和互连所述垂直孔隙的开放通道；所述抛光层中的多个凹槽，所述凹槽具有邻近抛光表面测量的平均宽度，在以固定速率旋转的半导体、光学和磁衬底中的所述至少一个上的点越过所述多个凹槽的所述宽度时所述多个凹槽具有碎屑去除停留时间，所述凹槽具有在抛光表面处所测量的宽度；以及所述多个凹槽内的多个凸出槽脊区域，所述多个凸出槽脊区域为枕块，所述枕块用从所述枕块的底部向外并且向下延伸的锥形支撑结构支持，所述枕块具有由含有所述垂直孔隙的所述聚合物基质形成所述抛光表面的截头或非尖顶部，在以固定速率旋转的半导体、光学和磁衬底中的所述至少一个上的点越过邻近所述多个凹槽的所述多个凸出槽脊区域时所述枕块具有在抛光表面处所测量的宽度和抛光停留时间，所述多个枕块具有小于所述多个凹槽的平均宽度的平均宽度，以便减少所述枕块的抛光停留时间并且增加所述凹槽区域的所述碎屑去除停留时间到大于所述抛光停留时间的值。