[发明专利]三维存储器及其操作方法在审

专利信息
申请号: 201710645400.1 申请日: 2017-08-01
公开(公告)号: CN109326604A 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 陈江宏;蔡耀庭;洪文;廖祐楷 申请(专利权)人: 华邦电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11548 分类号: H01L27/11548;H01L27/11551
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马雯雯;臧建明
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种三维存储器及其操作方法,包括:衬底、多条源极线、多个隔离结构、多条漏极线、多个位线、多个电荷存储结构以及多个导体层。源极线位于衬底上。隔离结构分别位于源极线之间,以电性隔离源极线。漏极线位于源极线上。漏极线与源极线的延伸方向不同。位线自源极线延伸至漏极线。电荷存储结构分别围绕位线。导体层分别覆盖沿各源极线排列的电荷存储结构的表面。
搜索关键词: 源极线 漏极线 电荷存储结构 三维存储器 隔离结构 导体层 衬底 极线 位线 电性隔离 个位 延伸 条源 自源 覆盖
【主权项】:
1.一种三维存储器,其特征在于,包括:多条源极线,位于衬底上;多个隔离结构,分别位于所述源极线之间,以电性隔离所述源极线;多条漏极线,位于所述源极线上,其中所述漏极线与所述源极线的延伸方向不同;多个位线,自所述源极线延伸至所述漏极线;多个电荷存储结构,分别围绕所述位线;以及多个导体层,分别覆盖沿各所述源极线排列的所述电荷存储结构的表面。
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