[发明专利]用于激光制样‑质谱氧同位素组成分析的激光池装置

摘要

本发明属于一种激光池装置，具体公开一种用于激光制样‑质谱氧同位素组成分析的激光池装置，该装置包括激光窗上法兰、激光窗、激光腔上腔体、第一真空管路、第二真空管路、样品池、激光腔下腔体和激光池底座，激光腔上腔体上方设有激光窗上法兰，激光腔上腔体与激光窗上法兰之间设有激光窗，第一真空管路、第二真空管路对称设在激光腔上腔体两侧，激光腔上腔体下方设有激光腔下腔体，激光腔下腔体下部内放置样品池，激光腔下腔体底部放置在激光池底座上。本发明的激光池装置够快速提取微量矿物中氧同位素，还能对整个激光池的真空度实现快速达标、且方便拆卸。

主权项

用于激光制样‑质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：该装置包括激光窗上法兰(2)、激光窗(4)、激光腔上腔体(6)、第一真空管路(7)、第二真空管路(8)、样品池(12)、激光腔下腔体(13)和激光池底座(15)，激光腔上腔体(6)上方设有激光窗上法兰(2)，激光腔上腔体(6)与激光窗上法兰(2)之间设有激光窗(4)，第一真空管路(7)、第二真空管路(8)对称设在激光腔上腔体(6)两侧，激光腔上腔体(6)下方设有激光腔下腔体(13)，激光腔下腔体(13)下部内放置样品池(12)，激光腔下腔体(13)底部放置在激光池底座(15)上。