[发明专利]一种磁流变平面抛光装置在审
| 申请号： | 201710662467.6 | 申请日： | 2017-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN107378651A | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 李建勇;樊文刚;曹建国;刘月明;聂蒙;朱朋哲;易德福 | 申请（专利权）人： | 北京交通大学;江西德义半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京市商泰律师事务所11255 | 代理人： | 黄晓军 |
| 地址： | 100044 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种磁流变平面抛光装置，涉及超精密加工技术领域，该装置包括支架，支架顶端设有平台，平台上固定有旋转座，旋转座上设有抛光盘，旋转座连接有抛光盘驱动机构；抛光盘的上方设有工件夹持机构，工件夹持机构设有夹盘；平台的下方设有磁场发生机构的转盘上以所述转盘的中心为起点，沿等速螺线均匀设置有若干永磁铁。本发明将永磁铁沿等速螺线以磁极方向相反的方式相间排布在转盘上，在抛光盘、待加工工件和永磁铁的旋转复合作用下，使磁流变抛光液形成柔性抛光面，磁流变抛光液中的磨料在脉冲磁场的作用下实时快速更新自锐，提高了磁流变抛光效率，降低了抛光液中磨粒的磨损率，延长了磁流变抛光液的使用寿命，提高了抛光效率和质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流变 平面 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种磁流变平面抛光装置，其特征在于：包括支架(1)，所述支架(1)的顶端设有平台(9)，所述平台(9)上固定有旋转座(10)，所述旋转座(10)上设有抛光盘(3)，所述旋转座(10)连接有抛光盘驱动机构(4)；所述抛光盘(3)的上方设有工件夹持机构(5)，所述工件夹持机构(5)包括有夹盘(507)，所述夹盘(507)位于所述抛光盘(3)上方；所述平台(9)的下方设有磁场发生机构(6)，所述磁场发生机构(6)包括有转盘(7)，所述转盘(7)位于所述抛光盘(3)的下方，所述转盘(7)上以所述转盘(7)的中心为起点，沿等速螺线均匀设置有若干永磁铁(8)。
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