[发明专利]一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法有效

专利信息
申请号: 201710662957.6 申请日: 2017-08-04
公开(公告)号: CN107443176B 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 李建勇;李保震;朱朋哲;曹建国;聂蒙 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B31/10
代理公司: 11255 北京市商泰律师事务所 代理人: 黄晓军
地址: 100044 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法,磁流变泡沫作为抛光介质,放置在抛光盘上,在外加磁场作用下形成柔性磁刷,抛光头和抛光盘分别带动工件和磁流变泡沫相对运动实现工件的抛光,抛光时磁流变抛光液与泡沫基体在磁场下相互耦合、共同作用提供抛光所需条件,在磁场作用下磁流变抛光液中铁磁性颗粒会形成磁链,磁链嵌入在泡沫基体的微孔中,增大柔性磁刷的有效剪应力,增大材料去除率,由于泡沫基体的存在,既增加了优化抛光性能的变量,又保留传统磁流变抛光的“容没”效应。本发明节省了磁流变抛光液,降低了成本,同时提高了抛光效率,解决了传统磁流变抛光中磁流变抛光液用量大及材料去除率低的问题。
搜索关键词: 一种 基于 流变 泡沫 光滑 平面 抛光 方法
【主权项】:
1.一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤S110:制作泡沫基体,所述泡沫基体内设有若干相互连通的通孔;其中,所述泡沫基体为软质聚氨酯泡沫塑料,所述通孔的直径范围为10μm~200μm;/n步骤S120:将所述泡沫基体安装在抛光装置中的抛光盘内;/n步骤S130:在所述抛光盘内注入磁流变抛光液,所述磁流变抛光液的成分包括铁磁性颗粒、去离子水、活性剂、添加剂和磨料;/n步骤S140:根据待加工工件的参数要求调节工艺参数;/n步骤S150:将待加工工件安装在所述抛光装置的抛光头上;/n步骤S160:将所述抛光装置接通电源,磁场发生装置旋转产生脉冲磁场,抛光盘内的磁流变抛光液在所述泡沫基体的范围内产生磁刷,所述磁刷随抛光盘旋转,同时,抛光头带动待加工工件旋转,实现待加工工件的表面抛光;/n在抛光过程中,磁流变抛光液通过所述通孔浸入泡沫基体内部,在脉冲磁场作用下磁流变抛光液中铁磁性颗粒形成链状结构;磁刷与链状结构相连,结合泡沫基体的吸附作用,磁流变抛光液被限制在有效区域而不扩散,磁流变抛光液与泡沫基体相互耦合。/n
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