[发明专利]液浸构件、曝光装置、液浸曝光装置、液浸曝光方法及元件制造方法

摘要

本发明的液浸构件(5)用于液浸曝光装置(EX)，在能于光学构件(13)的下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)。液浸构件具备配置在光学构件周围的至少一部分的第1构件(21)、与配置在曝光用光(EL)的光路(K)周围的至少一部分而能相对第1构件移动的第2构件(22)。第2构件具有通过间隙与第1构件的第1下面(23)相对的第2上面(25)、与物体可相对的第2下面(26)、以及配置在第2下面周围的至少一部分的流体回收部(27)。

主权项

一种液浸构件，用于通过在光学构件的射出面与基板之间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1下面；以及第2构件，于该第1构件的下方，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分，能相对该第1构件移动，其中该第2构件具备：与该第1构件的该第1下面通过间隙相对的第2上面；与该物体能相对的第2下面；以及配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部。