[发明专利]一种纹路识别器件、阵列基板及显示装置有效
申请号: | 201710677028.2 | 申请日: | 2017-08-09 |
公开(公告)号: | CN107423723B | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
发明(设计)人: | 刘英明;王海生;董学;丁小梁;许睿;李昌峰;顾品超 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种纹路识别器件、阵列基板及显示装置,利用两个反射斜面构成光路选择器,可以将与纹路识别器件的表面呈一定角度的纹路光线反射至光敏结构中的光敏二极管,而光敏结构中与光敏二极管层叠设置的第一遮光电极和第二遮光电极均不透光,仅第一遮光电极设置有开口区域,因此纹路光线只能从开口区域照射至光敏二极管。这样,可实现在纹路距离光敏结构较远的情况下,保证纹路中谷和脊的反射光线在光敏结构中不会混光,从而高清晰度的识别出纹路,有利于纹路识别器件与显示器件集成。由于采用结构较简单的两个反射斜面构成光路选择器以实现对纹路光线的角度进行过滤的作用,无需在纹路识别器件中设置制程复杂的光准直器件或光纤,易于量产。 | ||
搜索关键词: | 一种 纹路 识别 器件 阵列 显示装置 | ||
【主权项】:
一种纹路识别器件,其特征在于,包括:衬底基板和位于所述衬底基板上的多个纹路识别单元;各所述纹路识别单元包括:光敏结构,以及与所述光敏结构对应设置的光路选择器;其中,所述光敏结构包括层叠设置的第一遮光电极、光敏二极管和第二遮光电极;所述第一遮光电极具有开口区域;所述光路选择器包括:第一反射斜面,与所述第一反射斜面相对而置的第二反射斜面;所述光路选择器,用于将与所述纹路识别器件的表面呈一定角度的纹路光线反射至所述开口区域。
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