[发明专利]一种掩模台系统及光刻机在审
| 申请号： | 201710682505.4 | 申请日： | 2017-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN109388029A | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 文卫朋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模台系统，所述掩模台系统通过吊框安装在光刻机中，包括掩模台、掩模台底座、掩模台驱动单元、运动控制单元以及缓冲机构，所述缓冲机构固定在所述吊框上并与所述掩模台底座连接，用于削弱因掩模台驱动单元驱动掩模台而作用到掩模台底座上的驱动反力。本发明通过缓冲机构的机械减振和运动控制单元的系统补偿调控，能够有效降低由于驱动反力引起的掩模台振动，提高了掩模台的运动精度和稳定性，进而提高了光刻机的整机减振性能和动力学性能，维持了光刻装置的套刻和线宽指标，保证了设备的精度和稳定性，同时本发明还具有质量轻、体积小以及结构可靠等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模台 掩模台系统 缓冲机构 光刻机 运动控制单元 驱动单元 底座 吊框 反力 动力学性能 驱动 底座连接 光刻装置 减振性能 驱动掩模 系统补偿 体积小 减振 套刻 线宽 整机 削弱 调控 保证 | ||
【主权项】：
1.一种掩模台系统，通过吊框安装在光刻机中，所述掩模台系统包括掩模台、掩模台底座、掩模台驱动单元及运动控制单元，其特征在于，所述掩模台系统还包括缓冲机构，所述缓冲机构固定在所述吊框上并与所述掩模台底座连接，用于削弱因掩模台驱动单元驱动掩模台而作用到掩模台底座上的驱动反力。
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