[发明专利]COA基板及COA基板色阻层膜厚检测方法在审
| 申请号： | 201710686123.9 | 申请日： | 2017-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN107300733A | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 施秋霞 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B5/22;G09F9/00;G02F1/1335;G01B21/08 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰,顾楠楠 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种COA基板，包括多个阵列排布在基板上的子基板单元，所述子基板单元具有显示区和环绕在显示区外的非显示区，子基板单元包括阵列基板以及依次形成在阵列基板上的钝化层、色阻层，基板上设有量测区域，量测区域位于子基板单元的非显示区中，量测区域中设有量测结构，量测区域将量测结构裸露，所述量测结构包括量测钝化层以及量测色阻层，所述量测结构的表面形成量测面。本发明还提供了一种COA基板色阻层膜厚检测方法，包括如下步骤通过将膜厚量测探针接触量测面，并沿量测区域的长度方向移动，从而量测获得量测色阻层的厚度。与现有技术相比，可实时对基板靠近边缘位置的色阻层的膜厚状况进行量测，从而根据监控结果调整涂布等参数。 | ||
| 搜索关键词： | coa 基板色阻层膜厚 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种COA基板，其特征在于：包括多个阵列排布在基板(1)上的子基板单元(2)，所述子基板单元(2)具有显示区和环绕在显示区外的非显示区，所述子基板单元(2)包括阵列基板(21)以及依次形成在阵列基板(21)上的钝化层、色阻层，所述基板(1)上设有量测区域(3)，量测区域(3)位于每个子基板单元(2)的非显示区中，所述量测区域(3)中设有量测结构(32)，量测区域(3)将量测结构(32)裸露，所述量测结构(32)包括量测钝化层(22)以及量测色阻层(23)，所述量测结构(32)的表面形成量测面(31)。
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