[发明专利]防泄漏式真空电子束熔炼装置

摘要

本发明公开了一种防泄漏式真空电子束熔炼装置，包括真空室，以及无焊缝式水冷坩埚；所述的无焊缝式水冷坩埚包括，坩埚和法兰板，所述的真空室开设有安装孔，所述的无焊缝式水冷坩埚通过法兰板固定设置在所述的安装孔处。本发明的水冷坩埚结合热源及真空容器，用于真空金属冶炼提纯的工艺技术，提高了安全性和可靠性。尤其是安装式机构，将进出水口安置在真空室外侧，真空室内部无焊缝，无加工面，即使漏水也会流向真空室外，保证了安全性能。

主权项

1.一种防泄漏式真空电子束熔炼装置，其特征在于，包括真空室，以及无焊缝式水冷坩埚；所述的无焊缝式水冷坩埚包括，坩埚，其顶部形成有物料池，底部向内凹陷地形成有水槽，所述的坩埚底端形成有外凸式连接环，法兰板，与所述的坩埚底部固定连接并将所述的水槽下端口封闭，所述的法兰板与所述的水槽对应处设置有进水孔和出水孔；其中，在所述的水槽内固定设置有导流立柱，所述的导流立柱上端或下端形成有过流孔以使所述的水槽与过流孔配合构成上下迂回式水道，所述的导流立柱过渡配合或者过盈配合地设置在所述的水槽内；所述的水槽两侧形成有弧形凹窝以定位所述的导流立柱；所述的过流孔由导流立柱端部的通孔形成，或者，所述的过流孔由所述的导流立柱端面与水槽顶面或座板上表面间的间隙构成；所述的真空室开设有安装孔，所述的无焊缝式水冷坩埚通过连接环及法兰板固定设置在所述的安装孔处。