[发明专利]一种硅片扩散装置及硅片插片方法

摘要

本发明公开一种硅片扩散装置包括进气管、炉管、炉门、支架、排气管、石英舟；所述进气管、炉门分别设置在炉管的两端；所述石英舟设置在支架上侧，且两者均设置在炉管内部；所述排气管一端设置在炉管的内部，另一端由炉管内向外延伸；所述石英舟包括若干垂直于支架设置的石英棒；所述每一石英棒均开设若干开口朝内的卡槽，且卡槽开口长度方向与支架所在水平面平行。同时公开了一种硅片插片方法是将背靠背水平叠放的两硅片沿上述硅片扩散装置的卡槽开设方向平行插入所述卡槽内。本发明使硅片扩散后方阻均匀性良好，从而能获得更好的扩散效果，并且易于对扩散装置进行改造提升产能。

主权项

一种硅片扩散装置，其特征在于，包括进气管、炉管、炉门、支架、排气管、石英舟；所述进气管、炉门分别设置在炉管的两端；所述石英舟设置在支架上侧，且两者均设置在炉管内部；所述排气管一端设置在炉管的内部，另一端由炉管内向外延伸；所述石英舟包括若干垂直于支架设置的石英棒；所述每一石英棒均开设若干开口朝内的卡槽，且卡槽开口长度方向与支架所在水平面平行。