[发明专利]曝光方法、制造方法和基板处理方法在审
| 申请号： | 201710695999.X | 申请日： | 2012-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN107357137A | 公开（公告）日： | 2017-11-17 |
| 发明（设计）人： | 青木保夫 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 汤在彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的对基板(P)进行曝光处理的曝光装置，具备具有将基板(P)的一部分在确保平坦度的状态下保持的基板保持具(PH)、相对曝光位置(曝光区域(IA))于X轴方向移动的微动载台与将基板(P)驱动于XY平面内的Y轴方向的基板Y步进运送装置(88)。此场合，以基板保持具(PH)在确保平坦度的状态下保持基板(P)的一部分的微动载台相对曝光区域(IA)的X轴方向移动，在使用基板Y步进运送装置(88)的基板(P)于Y轴方向移动的前后进行，据以进行对基板(P)上的多个区域的曝光处理。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 制造 处理 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，使多片基板曝光：于具有可个别保持2片基板的第1及第2保持区域的基板保持装置装载该2片基板，在该2片基板中的一基板的曝光开始至结束为止的期间，进行另一基板的至少一个处理区域的曝光。
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