[发明专利]一种曝光机基台装置及曝光机

摘要

本发明涉及液晶显示技术领域，公开了一种曝光机基台装置及曝光机，该曝光机基台装置，包括：基台，基台具有玻璃承载面，且基台上设置有多个开口位于玻璃承载面的真空吸附孔，其中：每一个真空吸附孔内设置有可绕自身轴线转动的支撑机构，支撑机构的自身轴线与真空吸附孔的轴心线平行，且支撑机构具有用于支撑玻璃的支撑面，每一个真空吸附孔内设置有多个用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽气孔。上述曝光机基台装置中，在基台上设置真空吸附孔，真空吸附孔内设置支撑机构，避免基台与玻璃基板完全吸附，保证玻璃基板均匀受力，使得在曝光过程中玻璃基板的所有位置曝光程度一致，有效地避免了产生曝光差异导致的亮度不均、画面异常的问题。

主权项

1.一种曝光机基台装置，其特征在于，包括：基台，所述基台具有玻璃承载面，且所述基台上设置有多个开口位于所述玻璃承载面的真空吸附孔，其中：每一个所述真空吸附孔内设置有可绕自身轴线转动的支撑机构，所述支撑机构的自身轴线与所述真空吸附孔的轴心线平行，且所述支撑机构具有用于支撑玻璃的支撑面，所述支撑机构具有第一工位，且当所述支撑机构处于第一工位时，所述支撑面与所述玻璃承载面处于同一平面，且所述支撑面的面积小于所述真空吸附孔的面积；每一个所述真空吸附孔内设置有多个用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽气孔；在曝光开始前，每一个真空吸附孔中的支撑机构绕自身轴线高速转动，以使支撑机构的支撑面能够均匀地对玻璃基板中与真空吸附孔相对的部位进行均匀支撑，且为玻璃基板提供的支撑力能够抵消真空吸附孔吸附玻璃的力，使得玻璃基板处于真空吸附孔区域部位与位于非真空吸附孔区域部位的形变状态尽量一致。