[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板有效

专利信息
申请号: 201710713452.8 申请日: 2017-08-18
公开(公告)号: CN107527923B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 司秀丽;芮洲;江鹏;杨海鹏;戴珂 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1368;G02F1/1362;G02F1/1337
代理公司: 11262 北京安信方达知识产权代理有限公司 代理人: 张京波;曲鹏<国际申请>=<国际公布>=
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板。制备方法包括:在非显示区的标记区域形成第一标记图案,并形成覆盖非显示区的第一绝缘层;在非显示区形成半导体图案,半导体图案用于减少标记区域与相邻区域之间的段差;形成覆盖非显示区的第二绝缘层,通过构图工艺刻蚀标记区域的第二绝缘层。通过在非显示区形成半导体图案,并刻蚀标记区域的第二绝缘层,减小了标记区域与相邻区域之间的段差,改善了段差对摩擦滚轮绒布纤维的损伤,提升了摩擦配向良率。本发明实施例还提出了一种采用上述制备方法制备而成的阵列基板,同时还提出了一种包括该阵列基板的显示面板。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
1.一种阵列基板的制备方法,阵列基板包括显示区和非显示区,其特征在于,包括:/n在非显示区的标记区域形成第一标记图案,并形成覆盖非显示区的第一绝缘层;/n在非显示区形成用于减少标记区域与相邻区域之间的段差的半导体图案,所述半导体图案包括在标记区域之外的非显示区形成的第二半导体图案;/n在非显示区的标记区域形成第二标记图案;/n形成覆盖非显示区的第二绝缘层,通过构图工艺刻蚀标记区域的第二绝缘层。/n
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