[发明专利]一种高分子掩膜版及其制作方法和应用有效
| 申请号： | 201710713991.1 | 申请日： | 2017-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN107574408B | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 唐凡 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高分子掩膜版，包括承载基板以及依次叠层设置于承载基板上的牺牲层和掩膜；掩膜包括高分子膜层以及开设在高分子膜层上并贯穿高分子膜层的若干孔洞，高分子膜层中掺有磁性纳米颗粒。本发明还公开了上述高分子掩膜版的制作方法，包括步骤：S1、在承载基板上制作牺牲层；S2、在牺牲层上涂布掺有磁性纳米颗粒的高分子前驱体并固化成膜，形成高分子原膜；S3、利用光罩掩膜版采用激光扫描对高分子原膜上未被光罩掩膜版遮挡的区域进行烧蚀形成孔洞以形成掩膜，获得高分子掩膜版前驱体；S4、清洗并干燥高分子掩膜版前驱体后，弱化承载基板与掩膜之间的作用力，获得高分子掩膜版。本发明还公开了上述高分子掩膜版在制作OLED中的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 高分子膜层 承载基板 掩膜 牺牲层 孔洞 磁性纳米颗粒 前驱体 制作 光罩 原膜 高分子前驱体 固化成膜 激光扫描 叠层 烧蚀 遮挡 清洗 应用 弱化 贯穿 | ||
【主权项】：
1.一种高分子掩膜版，包括承载基板以及设置于所述承载基板上的掩膜；其特征在于，所述承载基板与所述掩膜之间还设置有牺牲层；所述掩膜包括高分子膜层以及开设在所述高分子膜层上并贯穿所述高分子膜层的若干孔洞，所述高分子膜层中掺有磁性纳米颗粒。
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