[发明专利]像差补偿装置和方法、光刻投影物镜及其像差补偿方法有效
| 申请号： | 201710714211.5 | 申请日： | 2017-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN109407469B | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 张羽;侯宝路;郭银章 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种像差补偿装置和方法、光刻投影物镜及其像差补偿方法，该像差补偿装置用于对一光学成像系统进行像差补偿和校正，所述像差补偿装置包括磁流变液反射镜、用于调整所述磁流变液反射镜的磁场发生装置、波前探测器及与所述波前探测器连接的计算机控制器，所述波前探测器和磁流变液反射镜沿光路依次设置在所述光学成像系统中。本发明通过设置磁流变液反射镜，其通过改变磁流变液中磁体的位置改变反射镜面型，以实现对像质的补偿，并且可以在补偿所有像差的同时不引起任何像差的增加；本发明选择磁流变液反射镜，可以通过调整磁流变液中磁体的位置改变反射镜的形状，进而生成任何新的高阶Zernike补偿面型，无串扰影响。 | ||
| 搜索关键词： | 补偿 装置 方法 光刻 投影 物镜 及其 | ||
【主权项】：
1.一种像差补偿装置，用于对一光学成像系统进行像差补偿和校正，其特征在于，所述像差补偿装置包括磁流变液反射镜、用于调整所述磁流变液反射镜的磁场发生装置、波前探测器及与所述波前探测器连接的计算机控制器，所述波前探测器和磁流变液反射镜沿光路依次设置在所述光学成像系统中。
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