[发明专利]一种合成能量石及其制备方法有效
| 申请号： | 201710717168.8 | 申请日： | 2017-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN107538624B | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 宋利军;刘建平;刘静 | 申请（专利权）人： | 刘建平 |
| 主分类号： | B28D1/04 | 分类号： | B28D1/04;C04B41/52;C03C8/00 |
| 代理公司： | 太原晋科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14110 | 代理人： | 杨陈凤 |
| 地址： | 035500 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明属于材料制作及合成石领域，具体涉及一种合成能量石及其制造方法，旨在利用烧结工艺将硅镁质矿物、稀土永磁和锗石进行高温聚合，并在其釉面材料中配加负离子矿物构成电磁能量体系，该合成能量石，包括石质基体、永磁片、锗石片和铁橄榄石片，所述石质基体的一侧表面上开有若干相互平行的沟槽，沟槽内嵌装有若干永磁片，所述永磁片沿沟槽纵向均布排列，永磁片之间排列有若干锗石片和铁橄榄石片。该能量石是经锯切研磨、粘磁锗片、底釉抹平、面釉喷涂、入窑烧结和抛光俢整制作而成，铁橄榄石片的作用是增加永磁片的导磁作用，锗石片主要是利用磁场激发锗元素对人体活化作用等。 | ||
| 搜索关键词： | 永磁片 合成能量 铁橄榄石 锗石片 矿物 石质 导磁作用 电磁能量 高温聚合 沟槽纵向 均布排列 烧结工艺 稀土永磁 釉面材料 抛光 烧结 研磨 负离子 合成石 能量石 锗元素 喷涂 底釉 硅镁 活化 锯切 面釉 抹平 内嵌 入窑 锗片 锗石 制备 磁场 平行 激发 制作 制造 | ||
【主权项】：
1.一种合成能量石，其特征在于：包括石质基体（1）、永磁片（2）、锗石片（3）和铁橄榄石片（5），所述石质基体（1）的一侧表面上开有若干相互平行的沟槽（4），沟槽（4）内嵌装有若干永磁片（2），所述永磁片（2）沿沟槽（4）纵向均布排列，永磁片（2）之间排列有若干锗石片（3）和铁橄榄石片（5）。该能量石是经锯切研磨、粘磁锗片、底釉抹平、面釉喷涂、入窑烧结和抛光俢整制作而成，具体制备方法如下：锯切研磨：将基体矿物锯磨成设定型石质基体（1），并在其任意一面上锯切出若干相互平行的沟槽（4）；粘磁锗片：在沟槽（4）内涂抹一层粘结料，将永磁片（2）在沟槽（4）内沿纵向等间距均匀排布，再利用锗石片（3）和铁橄榄石片（5）填充永磁片（2）之间的空隙直至填满纵向沟槽（4）；底釉抹平：在能量釉料中掺入着色剂，对沟槽（4）内排布的永磁片（2）、锗石片（3）和铁橄榄石片（5）进行刮涂抹平直至与沟槽（4）顶面齐平，然后进行干燥处理；面釉喷涂：用能量釉料对石质基体（1）除沟槽（4）所在面的相对面以外的其余表面进行0.5‑1.5mm厚度的施釉处理，制成生坯，生坯的未施釉面为正面；入窑烧结：是对合成生坯按5‑20℃/min速率升温至1080‑1250℃，保持60‑180min，其后按升温速率降至500‑600℃回火2‑4小时制成半成品；抛光修整：对未施釉的正面进行抛光处理，成品。
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