[发明专利]低旁瓣的基于互质思想的分子阵布阵方法有效
申请号: | 201710735645.3 | 申请日: | 2017-08-24 |
公开(公告)号: | CN107611624B | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 谢菊兰;干鹏;杨雪;罗紫惠;何子述 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01Q21/00 | 分类号: | H01Q21/00;G06F30/20 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 周刘英 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种低旁瓣的基于互质思想的分子阵布阵方法,属于阵列信号技术领域,本发明的布阵方法为:由N个阵元数为M的子阵构成一维初始线阵,各子阵间的间距均为Md,各子阵内的阵元间距均为Nd,d为半个载波波长,M与N互质;对一维初始线阵进行扩展:分别为每个子阵增加a个阵元,得到扩展子阵,其中a不小于0.5M的上取整,扩展子阵的阵元间距均为Nd;增加a个扩展子阵,且扩展子阵间的间距均为Md;去除重合阵元得到扩展后的一维线阵结构。同时对本发明进行进一步扩展还可以用于对二维面阵的布阵处理,如沿三维坐标的X或Y轴方向扩展,或同时沿X、Y轴方向扩展来得到二维阵列结构。本发明的可扩展性好,扫描性能优良,对应的波束图的主瓣窄,旁瓣低。 | ||
搜索关键词: | 低旁瓣 基于 思想 分子 布阵 方法 | ||
【主权项】:
低旁瓣的基于互质思想的分子阵布阵方法,其特征在于,包括下列步骤:由N个子阵构成一维初始线阵,其中每个子阵内阵元数均为M,子阵间的间距均为Md,子阵内的阵元间距均为Nd,d为半个载波波长,整数M与N互质;对一维初始线阵进行扩展:分别为每个子阵增加a个阵元,得到扩展子阵,其中整数所述扩展子阵的阵元间距均为Nd;增加a个扩展子阵,且扩展子阵间的间距均为Md;去除重合阵元得到扩展后的一维线阵结构。
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