[发明专利]显示装置、阵列基板及其制备方法有效
| 申请号： | 201710736947.2 | 申请日： | 2017-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN107546234B | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 王文涛;史大为;杨璐;徐海峰;姚磊;闫雷;薛进进;候林;王金锋;司晓文;闫芳;王培;刘国梁 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L27/12 | 分类号： | H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了显示装置、阵列基板及其制备方法。根据本发明的实施例，该阵列基板包括：衬底；平坦化层，所述平坦化层设置在所述衬底上，所述平坦化层具有第一过孔；钝化层，所述钝化层设置在所述平坦化层远离所述衬底的一侧，所述钝化层具有第二过孔，其中，所述第一过孔与所述第二过孔在所述衬底上的投影不重叠。由此，平坦化层过孔与钝化层过孔未形成套孔结构，缓解了显示装置在显示时产生显示不均的现象，提高了产品良率，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底；平坦化层，所述平坦化层设置在所述衬底上，所述平坦化层具有第一过孔；钝化层，所述钝化层设置在所述平坦化层远离所述衬底的一侧，所述钝化层具有第二过孔，其中，所述第一过孔与所述第二过孔在所述衬底上的投影不重叠。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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