[发明专利]一种调试方法及蒸镀机有效
| 申请号： | 201710738931.5 | 申请日： | 2017-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN107523787B | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 蒋谦 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种调试方法及蒸镀机，该方法用于调整精密型掩膜板与待作业基板的相对位置，包括：装载调试用基板至调试用蒸镀腔内；装载精密型掩膜板至调试用蒸镀腔内；开启调试用蒸镀腔内的光源并通过精密型掩膜板而照射调试用基板上的光致变色层，其中，光致变色层中被照射光照射的部分区域发生变色；根据光致变色层中发生变色的部分区域的位置，而获取精密型掩膜板的补偿值。上述方法在调整时可以省去有机材料，提高调试速度。 | ||
| 搜索关键词： | 调试 精密型 掩膜板 光致变色层 蒸镀腔 蒸镀机 基板 变色 装载 照射 有机材料 作业基板 照射光 光源 | ||
【主权项】：
1.一种调试方法，用于调整精密型掩膜板与待作业基板的相对位置，其特征在于，包括：装载调试用基板至调试用蒸镀腔内，其中，所述调试用基板包括基板以及设置在基板上的光致变色层和阳极薄膜层，所述光致变色层和所述阳极薄膜层之一被预先图案化，且当所述调试用基板上的所述光致变色层被预先图案化时，图案化的所述光致变色层设置在所述阳极薄膜层远离所述基板的一侧，当所述调试用基板上的所述阳极薄膜层被预先图案化时，图案化的所述阳极薄膜层设置在所述光致变色层远离所述基板的一侧；装载所述精密型掩膜板至所述调试用蒸镀腔内，其中，所述精密型掩膜板包括透光区和遮光区；所述精密型掩膜板和所述调试用基板对位后，开启所述调试用蒸镀腔内的光源并通过所述精密型掩膜板而照射所述调试用基板上的所述光致变色层，其中，所述光致变色层中被照射光照射的部分区域发生变色；根据所述光致变色层中发生变色的部分区域的位置，而获取所述精密型掩膜板的补偿值，其中，所述补偿值用于供蒸镀机调整所述精密型掩膜板与所述待作业基板的相对位置。
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