[发明专利]转印膜片与其制作方法有效

专利信息
申请号: 201710740863.6 申请日: 2017-08-25
公开(公告)号: CN109397915B 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 邱如珍;林伯安;刘志华 申请(专利权)人: 仁宝电脑工业股份有限公司
主分类号: B41M5/035 分类号: B41M5/035;B41M3/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 中国台湾台北市內湖*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种转印膜片包括基材、保护层、金属镀层以及油墨层。基材具有第一表面与第二表面,且第一表面具有第一立体图纹。保护层设置于基材上,且具有第三表面与第四表面。第三表面与第一表面接触,且具有与第一立体图纹互补的第二立体图纹。第四表面具有第三立体图纹。金属镀层设置于保护层上,且具有与第四表面接触的第五表面与第六表面。油墨层设置于金属镀层上。保护层与基材在转印后分离,以暴露出第二立体图纹,并反射出第三立体图纹。另提出一种转印膜片的制作方法。
搜索关键词: 膜片 与其 制作方法
【主权项】:
1.一种转印膜片,其特征在于,包括:一基材,具有彼此相对的一第一表面与一第二表面,且该第一表面具有一第一立体图纹;一保护层,设置于该基材的该第一表面上,该保护层具有彼此相对的一第三表面与一第四表面,其中该第三表面与该第一表面接触,且该第三表面具有一与该第一立体图纹互补的第二立体图纹,该第四表面具有一第三立体图纹;一金属镀层,设置于该保护层的该第四表面上,其中该金属镀层具有彼此相对的一第五表面与一第六表面,且该第五表面与该第四表面接触;以及一油墨层,设置于该金属镀层的该第六表面上,其中该保护层与该基材在转印后分离,以暴露出该第二立体图纹,并反射出该第三立体图纹。
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