[发明专利]模板剂导向合成的多孔配位聚合物及其制备与应用有效

专利信息
申请号: 201710742521.8 申请日: 2017-08-25
公开(公告)号: CN107417926B 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 张亚男;成晶;张鹏;黄文欢;张昱 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C08G83/00 分类号: C08G83/00;C09K11/06;G01N21/64
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 黄秦芳
地址: 710021*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及模板剂导向合成的多孔配位聚合物及其制备方法和应用,该配位聚合物的化学式为{Cd3(cia)2(4,4’‑bipy)·2H2O}n;其中cia为2‑(4‑羧基苯氧基)对苯二甲酸脱去质子后的阴离子,4,4’‑bipy为4,4’‑联吡啶有机配体,n为聚合度。本发明首次采用1,4‑二(1,2,4‑三唑基‑1‑亚甲基)苯为水热反应模板剂,通过控制反应条件,制备出孔隙率为31.6%多孔配位聚合物;所得的配位聚合物具有良好的热稳定性,荧光强度高,呈现清晰的蓝光,颜色纯粹;可作为荧光探针高效检测硝基苯客体有机分子;本发明制备工艺简单、晶体纯度高、产率高、检测方法简单、选择性高,是实验室合成的新型发光材料。
搜索关键词: 模板 导向 合成 多孔 配位聚合 及其 制备 应用
【主权项】:
模板剂导向合成的多孔配位聚合物,其特征在于:该配位聚合物的化学式为{Cd3(cia)2(4,4’‑bipy)·2H2O}n;其中:cia为2‑(4‑羧基苯氧基)对苯二甲酸脱去质子后的阴离子;4,4’‑bipy为4,4’‑联吡啶有机配体;n为聚合度。
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