[发明专利]光酸生成化合物和相关聚合物，光致抗蚀剂组合物，和形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法

摘要

一种光酸生成化合物，其具有以下结构其中R1、R2、R3、R4、Q和X如本文所定义。所述光酸生成化合物可以用作光致抗蚀剂组合物的组分，或用作并入到可用于光致抗蚀剂组合物中的聚合物中的单体。所述光酸生成化合物提供所需的溶解度和线宽粗糙度的平衡。

主权项

一种光酸生成化合物，其具有以下结构其中R1是包含羟基、内酯基或其组合的C6‑20多环烃基；R2是包含羟基、内酯基或其组合的C6‑20多环烃基；或‑[(CH2)n‑Y‑SO3‑Z+]，其中n是0、1或2；Y是包含至少一个氟原子的C1‑4亚烷基，其条件是当n是0时，Y是包含至少一个氟原子的C2‑4亚烷基；并且Z+是有机阳离子；R3和R4各自独立地是氢、氰基、C1‑6烷基、C1‑6氟烷基、任选地经取代的C6‑12芳基，或‑C(O)O‑R11，其中R11是任选地包含一个或多个杂原子的C1‑20烷基；并且Q是其中R5和R6各自独立地是氢、氟、氰基、三氟甲基、C1‑6烷基、包含内酯基的C6‑20烃基，或‑OR12，其中R12是C1‑20烷基，或包含内酯基的C6‑20烃基；并且R7、R8、R9和R10各自独立地是氢；羟基：‑OR13，其中R13是任选地包含一个或多个杂原子的C1‑20烃基；‑SR13，其中R13如上所定义；‑OC(O)R13，其中R13如上所定义；‑N(R14)C(O)R13，其中R13如上所定义，并且R14是氢或任选地包含一个或多个杂原子的C1‑20烃基；‑[OC(O)C(Ra)＝CH2]，其中Ra是氢或氟或氰基或C1‑10烷基或C1‑10氟烷基；‑[O‑(CH2)n‑Y‑SO3‑Z+]，其中n、Y和Z+如上所定义；‑[S‑(CH2)n‑Y‑SO3‑Z+]，其中n、Y和Z+如上所定义；或‑[O‑C(O)‑(CH2)n‑Y‑SO3‑Z+]，其中n、Y和Z+如上所定义；并且X是‑CH2‑、‑O‑、‑C(O)‑、‑S(O)‑或‑S(O)2‑；其条件是所述光酸生成化合物包含存在恰好一个‑[(CH2)n‑Y‑SO3‑Z+]，存在1或2个包含羟基、内酯基或其组合的所述C6‑20多环烃基，以及总共存在1、2或3个羟基和内酯基；并且其条件是当Q是并且R5、R6、R7、R8、R9和R10是氢，并且R2是‑[(CH2)n‑Y‑SO3‑Z+]时，那么R1不包括C(O)O‑基团和‑S(O)2‑基团。