[发明专利]基于POFV树脂塞孔饱满度及热应力后塞孔树脂膨胀控制工艺在审
申请号: | 201710747511.3 | 申请日: | 2017-08-28 |
公开(公告)号: | CN107567180A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 何国辉;郭世勇;冯岩;吴为;姚丽萍 | 申请(专利权)人: | 广德新三联电子有限公司;杭州新三联电子有限公司 |
主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02;H05K3/00;H05K3/42 |
代理公司: | 温州知远专利代理事务所(特殊普通合伙)33262 | 代理人: | 汤时达 |
地址: | 242000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了基于POFV树脂塞孔饱满度及热应力后塞孔树脂膨胀控制工艺。包括如下过程SS01钻孔;SS02 PTH;SS03一次电镀;SS04 POFV树脂塞孔;SS05树脂研磨;SS06 PTH;SS07二次电镀;SS08图形转移。本发明通过一次电镀和二次电镀,有效地对树脂塞孔饱满度及热应力后塞孔树脂Z轴膨胀值的控制,避免在树脂塞孔饱满度及热应力下出现膨胀,在室温下出现树脂塞孔孔口凹陷的问题,孔口凹陷造成PCB产品失效;降低了加工工艺工序,有效地提高产品品质,间接提高产品生产率。 | ||
搜索关键词: | 基于 pofv 树脂 饱满 应力 后塞孔 膨胀 控制 工艺 | ||
【主权项】:
基于POFV树脂塞孔饱满度及热应力后塞孔树脂膨胀控制工艺,其特征在于,包括如下过程:SS01钻孔;SS02PTH;SS03一次电镀;SS04POFV树脂塞孔;SS05树脂研磨;SS06PTH;SS07二次电镀;SS08图形转移。
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