[发明专利]用于处理基板的装置和方法在审
申请号: | 201710755167.2 | 申请日: | 2017-08-29 |
公开(公告)号: | CN107799437A | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 崔荣;权庆兰;李正悦;朴珉贞 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/027 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人: | 赵丹,赵莎 |
地址: | 韩国忠淸南道天安*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种用于处理基板的装置。该装置包括工艺执行模块和控制器。工艺执行模块包括多个工艺腔室以及传输腔室,所述传输腔室设置有索引机械手,所述索引机械手配置为在各所述工艺腔室之间传送所述基板。控制器控制工艺执行模块顺序地执行以下工艺通过将第一涂覆液提供到具有图案的基板上来形成第一涂层的第一涂覆工艺;通过向所述基板提供化学品来去除所述第一涂层的刻蚀工艺;以及,通过将第二涂覆液提供到所述基板上而形成第二涂层的第二涂覆工艺。所述工艺腔室包括第一腔室,所述第一腔室配置为执行所述第一涂覆工艺;和第二腔室,所述第二腔室配置为执行所述第二涂覆工艺。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种用于处理基板的装置,其特征在于,所述装置包括:索引模块;工艺执行模块;和控制器,其中所述索引模块包括:装载端口,容纳基板的容器位于所述装载端口上;和传输框架,所述传输框架设置有索引机械手,所述索引机械手配置为在所述容器和所述工艺执行模块之间传送所述基板,其中所述工艺执行模块包括:多个工艺腔室;和传输腔室,所述传输腔室设置有主机械手,所述主机械手配置为在各所述工艺腔室之间传送基板,其中所述控制器控制所述工艺执行模块顺序地执行以下工艺:通过将第一涂覆液提供到具有图案的基板上来形成第一涂层的第一涂覆工艺;通过向所述基板提供化学品来去除位于所述图案上表面的所述第一涂层而使得所述图案的上表面露出的刻蚀工艺;以及,通过将第二涂覆液提供到所述基板上而形成第二涂层的第二涂覆工艺,并且其中所述工艺腔室包括:第一腔室,所述第一腔室配置为执行所述第一涂覆工艺;和第二腔室,所述第二腔室配置为执行所述第二涂覆工艺。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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