[发明专利]基板处理装置

摘要

基板处理装置具有基板保持部、基板旋转机构和腔室。基板旋转机构具有在腔室的内部空间配置的环状的转子部和在腔室外配置在转子部的周围的定子部。基板保持部在腔室的内部空间安装在转子部上。在基板旋转机构中，在定子部和转子部之间产生以中心轴为中心的旋转力。由此，转子部与基板以及基板保持部一起以中心轴为中心以漂浮状态进行旋转。在基板处理装置中，能够在具有高的密闭性的内部空间内使基板容易进行旋转。其结果，能够容易实现在密闭的内部空间中的基板的单张处理。

主权项

一种基板处理装置，对基板进行处理，其特征在于，具有：腔室，具有腔室主体以及腔室盖部，通过由所述腔室盖部堵塞所述腔室主体的上部开口，来形成被密闭的内部空间，基板保持部，配置在所述腔室的所述内部空间内，将基板保持为水平状态，基板旋转机构，以朝向上下方向的中心轴为中心，使所述基板与所述基板保持部一起进行旋转，处理液排出部，将供给到所述基板上的处理液向所述腔室外排出；所述基板旋转机构具有：环状的转子部，其配置在所述腔室的所述内部空间内，并安装有所述基板保持部，定子部，在所述腔室外配置在所述转子部的周围，在所述定子部与所述转子部之间产生旋转力，多个升降销，在以所述中心轴为中心的周向上排列，并从所述腔室盖部向下突出，升降销移动机构，使所述多个升降销相对于所述腔室盖部在所述上下方向上进行移动；通过所述升降销移动机构使所述多个升降销各自的顶端部从退避位置下降到交接位置，在所述交接位置，在所述多个升降销和所述基板保持部之间进行基板的交接。