[发明专利]一种基于石墨烯微圆柱阵列的柔性薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201710770399.5 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN107556508B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 刘爱萍;钱巍;吴化平;李敏 | 申请（专利权）人： | 浙江理工大学 |
| 主分类号： | C08J7/06 | 分类号： | C08J7/06 |
| 代理公司： | 33200 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 黄欢娣;邱启旺 |
| 地址： | 310018 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种基于石墨烯微圆柱阵列的柔性薄膜的制备方法，属微纳加工领域，通过对微阵列硅模板的清洗，经疏水处理后浇注PDMS，固化剥离得到具有微阵列结构的PDMS，随后经等离子体氧刻蚀处理和聚二烯二甲基氯化铵溶液浸泡，滴涂石墨烯水溶液，干燥后石墨烯能均匀铺展在微柱阵列表面及侧面，最后得到柔性微柱阵列薄膜。该制备方法简单易行，工艺参数可控，成本低廉，可重复性高。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨烯 微柱阵列 制备 等离子体 二甲基氯化铵 微阵列结构 可重复性 溶液浸泡 柔性薄膜 疏水处理 微纳加工 圆柱阵列 硅模板 聚二烯 微阵列 浇注 滴涂 可控 刻蚀 薄膜 固化 铺展 清洗 剥离 侧面 | ||
【主权项】：
1.一种基于石墨烯微圆柱阵列的柔性薄膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：/n(1)构建具有微圆柱阵列的PDMS基底，所述微圆柱的高度为20μm，长径比为1～2.5；/n(2)将具有微阵列的PDMS置于等离子体刻蚀仪中，用等离子体氧处理10-15min，随后将PDMS浸泡于质量浓度为5wt％的PDDA溶液(聚二烯二甲基氯化铵溶液)中30-60min，然后用去离子水洗涤，再置于40℃烘箱中干燥；/n(3)滴涂0.3mg/ml的石墨烯溶液，滴涂的量为200-467μl/cm
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江理工大学，未经浙江理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710770399.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
