[发明专利]图案形成片、图案制造装置、图案制造方法及图案制造程序在审
| 申请号： | 201710770510.0 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN107870506A | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 大嶋英司 | 申请（专利权）人： | 康达智株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 杜诚,李德山 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种图案形成片、图案制造装置、图案制造方法以及图案制造程序。能够实现消除高成本准确定位的必要性的图案形成和图案制造。图案制造装置(100)包括控制器(101)和激光投影仪(102)。控制器(101)控制激光投影仪(102)在放置在台(140)上的图案形成片(130)上形成图案。激光投影仪(102)还包括光学引擎(121)。光学引擎(121)用激光束(122)照射图案形成片(130)。台(140)具有不阻碍光束(122)的光学路径的中空结构。图案形成片(130)包括透光片材料层和涂敷到片材料层的光固化层。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 制造 装置 方法 程序 | ||
【主权项】：
一种用于形成图案的图案形成片，其适合于任意工件表面，所述图案形成片包括：透光片材料层；以及膏状光固化层，其被涂敷到所述片材料层并且包含光固化树脂。
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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