[发明专利]光学测量系统及方法有效
| 申请号： | 201710770825.5 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109425619B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 刘涛;张凌云;张鹏斌;陈鲁 | 申请（专利权）人： | 深圳中科飞测科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 | 代理人： | 钟胜光 |
| 地址： | 518110 广东省深圳市龙华区大浪街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了光学测量系统及方法。该系统包括：入射光产生单元，其被配置为产生用于测量待测物的入射光；反射光检测单元，其被配置为接收来自待测物的反射光，并确定相应的测量结果；以及处理单元，并被配置为利用入射光在待测物表面上形成的光斑以指定测量路径对待测物进行测量，处理单元基于测量结果来确定缺陷在待测物中的分布。本发明的测量系统结构简单、检测速度快、成本低，并且杂散光较少，具有更高的检测灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学测量系统，其特征在于，包括：入射光产生单元，其被配置为产生用于测量待测物的入射光；反射光检测单元，其被配置为接收来自所述待测物的反射光，并确定相应的测量结果；以及处理单元，并被配置为利用所述入射光在所述待测物表面上形成的光斑以指定测量路径对所述待测物进行测量，所述处理单元基于所述测量结果来确定所述缺陷在所述待测物中的分布。
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