[发明专利]图像传感器的形成方法在审

专利信息
申请号: 201710799968.9 申请日: 2017-09-06
公开(公告)号: CN107578990A 公开(公告)日: 2018-01-12
发明(设计)人: 吴明;吴孝哲;林宗贤;吴龙江;常传栋;朱晓彤 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L21/265 分类号: H01L21/265;H01L27/146
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 吴敏
地址: 223302 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种图像传感器的形成方法,包括提供工艺衬底,工艺衬底包括相背设置的第一面和第二面;在第一面上形成过渡层;在过渡层上形成第一掺杂层;在第一掺杂层上形成感光结构;形成感光结构之后,以过渡层为停止层,对工艺衬底的第二面进行减薄处理,以去除工艺衬底;去除工艺衬底之后,去除过渡层,露出第一掺杂层。过渡层在减薄处理过程中作为停止层,提高去除工艺衬底的工艺控制精度,提高所形成图像传感器中,第一掺杂层厚度的精确性,使省去滤色镜结构而实现不同颜色光信号采集成为可能,从而达到简化形成工艺和器件结构,降低制造成本的目的,更好地实现结构简化和性能改善的兼顾。
搜索关键词: 图像传感器 形成 方法
【主权项】:
一种图像传感器的形成方法,其特征在于,包括:提供工艺衬底,所述工艺衬底包括相背设置的第一面和第二面;在所述第一面上形成过渡层;在所述过渡层上形成第一掺杂层;在所述第一掺杂层上形成感光结构;形成所述感光结构之后,以所述过渡层为停止层,对所述工艺衬底的第二面进行减薄处理,以去除所述工艺衬底;去除所述工艺衬底之后,去除所述过渡层,露出所述第一掺杂层。
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