[发明专利]氧化石墨烯阵列变色薄膜/复合薄膜的制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 201710801696.1 申请日: 2017-09-07
公开(公告)号: CN107655856B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 迟虹;宫廷媛;李天铎 申请(专利权)人: 齐鲁工业大学
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45;G01N21/78
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 于晓晓
地址: 250353 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于化学材料技术领域,具体涉及一种能够在不同气体环境中显现出不同颜色的氧化石墨烯薄膜或复合薄膜的制备方法,该氧化石墨烯膜可应用于湿度、有害气体的气体传感器制备中。具体制备方法是,配制氧化石墨烯溶液以及高分子溶液后将其依次通过旋涂仪旋涂在修饰过的硅片基底上,干燥,得变色氧化石墨烯/高分子复合薄膜。本发明提高石墨烯气敏材料的分散性和选择性,引入功能化高分子,稳定石墨烯片层结构的同时提高气敏选择,制备平整的、层数可控的石墨烯/高分子结构色薄膜;打破传统石墨烯气敏材料依赖于电化学检测的特点,通过薄膜干涉的原理,构建基于干涉光响应的有机小分子可视化检测组装阵列,实现对湿度、有害气体的实时、快速准确和可视化检测。
搜索关键词: 氧化 石墨 阵列 变色 薄膜 复合 制备 方法 应用
【主权项】:
氧化石墨烯阵列变色薄膜的制备方法,其特征在于,配制氧化石墨烯溶液后,将其通过旋涂仪旋涂在修饰过的硅片基底上,干燥,得氧化石墨烯阵列变色薄膜;或配制氧化石墨烯和高分子溶液后通过旋涂仪将两者交替旋涂在修饰过的硅片基底上,干燥,得氧化石墨烯阵列变色薄膜。
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