[发明专利]一种利用PDPAEMA修饰形状记忆聚合物进行表面浸润性调控的方法有效
| 申请号： | 201710802153.1 | 申请日： | 2017-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN107540866B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 刘宇艳;张东杰;成中军;康红军 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C08J7/18 | 分类号： | C08J7/18;C08J7/12;C08F283/10;C08F220/34 |
| 代理公司： | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人： | 高媛 |
| 地址： | 150000 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种利用PDPAEMA修饰形状记忆聚合物进行表面浸润性调控的方法，涉及一种对材料的表面进行浸润性调控的方法。本发明的步骤要点如下：(1)使用光刻法对硅片进行刻蚀；(2)利用PDMS对硅片进行赋形；(3)利用PDMS模版进行形状记忆环氧树脂微阵列的赋形；(4)在环氧树脂微阵列表面接枝聚2‑(二异丙基氨基)乙基甲基丙烯酸酯；(5)利用(4)得到的样品进行表面浸润性的调控。本发明的优点是首次将表面微观结构调控与表面pH响应分子相结合，可通过物理调控和化学调控协同作用，首次实现同一表面的浸润性从超亲水到超疏水的可控转化，得到的智能表面可用于智能器件，如表面细胞、油水分离，是一种全新的响应表面制备技术。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 pdpaema 修饰 形状 记忆 聚合物 进行 表面 浸润 调控 方法 | ||
【主权项】：
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