[发明专利]一种石墨烯-六方氮化硼异质结构材料的制备方法有效
| 申请号： | 201710803564.2 | 申请日： | 2017-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN107481871B | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 熊传溪;郑譞;杨全玲 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | H01G11/86 | 分类号： | H01G11/86;H01G11/24;H01G11/30;H01G11/36 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 刘洋 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种石墨烯‑六方氮化硼异质结构材料的制备方法。包括以下步骤：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入鳞片石墨粉末，搅拌反应收集上悬液，过滤干燥，得到少层石墨烯；得到澄清透明溶液；加入六方氮化硼粉末，搅拌反应收集上悬液，过滤干燥，得到少层六方氮化硼纳米片；将上述少层石墨烯和少层六方氮化硼纳米片分散于溶剂B中得到混合溶液；将所得混合溶液超声处理，再搅拌，离心，弃去上层液，得到石墨烯‑六方氮化硼异质结构材料。本发明采用的一种新型化学液相剥离法制备了graphene和h‑BN纳米片，这种简单、有效的制备新方法目前未有报道，进而为类石墨烯二维材料的大规模制备提供了新的研究思路和技术方案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 氮化 硼异质 结构 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种石墨烯‑六方氮化硼异质结构材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)少层石墨烯的制备：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入鳞片石墨粉末，搅拌反应8～24h，得到分散液；将所得分散液以3000～5000rpm离心，收集上悬液，过滤所得滤饼在80～100℃真空干燥，得到少层石墨烯；其中，所述鳞片石墨粉末粒径≤45um；有机小分子与溶剂A固液比为1:(20‑30)g/mL；鳞片石墨粉与溶液固液比为1:50g/mL；所述少层石墨烯≤10单原子层；(2)六方氮化硼纳米片的制备：将有机小分子溶于溶剂A得到澄清透明溶液；加入六方氮化硼粉末，搅拌反应8～24h，得到分散液；将所得分散液以5000～8000rpm离心，收集上悬液，过滤所得滤饼在80～100℃真空干燥，得到少层六方氮化硼纳米片；其中，所述六方氮化硼粉末粒径≤2um；有机小分子与溶剂A固液比为1:(20‑30)g/mL；六方氮化硼粉末与溶液固液比为1:50g/mL；所述少层六方氮化硼纳米片≤10单原子层；(3)石墨烯‑六方氮化硼异质结构材料的制备：将上述少层石墨烯和少层六方氮化硼纳米片分散于溶剂B中得到混合溶液；将所得混合溶液超声处理，再搅拌8‑24h后以1000～3000rpm离心，弃去上层液，得到固体沉淀，即为石墨烯‑六方氮化硼异质结构材料；其中，所述少层石墨烯和少层六方氮化硼按质量比为1:(0.25‑4)；所述少层石墨烯和少层六方氮化硼纳在混合溶液中浓度为0.1～1mg/mL。
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