[发明专利]光罩有效
| 申请号： | 201710816146.7 | 申请日： | 2017-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN107505811B | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 安立扬;徐向阳 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G02F1/1343;G02F1/13 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光罩，用于制作阵列基板的公共电极，包括中心部分、第一部分以及第二部分，第一部分连接中心部分且沿第一方向延伸，第二部分连接中心部分且沿第二方向延伸，第一方向与第二方向交叉，第一部分与中心部分的交界处形成第一凹槽，第二部分与中心部分的交界处形成第二凹槽，第二凹槽连通第一凹槽以共同形成第一凹陷区。上述光罩能够降低应用上述阵列基板的液晶显示面板出现显示不良的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩 | ||
【主权项】：
一种光罩，用于制作阵列基板的公共电极，其特征在于，包括中心部分、第一部分以及第二部分，所述第一部分连接所述中心部分且沿第一方向延伸，所述第二部分连接所述中心部分且沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向交叉，所述第一部分与所述中心部分的交界处形成第一凹槽，所述第二部分与所述中心部分的交界处形成第二凹槽，所述第二凹槽连通所述第一凹槽以共同形成第一凹陷区。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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