[发明专利]超景深效果成像方法、装置及电子设备有效
| 申请号： | 201710818721.7 | 申请日： | 2017-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN107707813B | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 杜琳 | 申请（专利权）人： | 北京小米移动软件有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/232 | 分类号： | H04N5/232;H04N5/335 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 林祥 |
| 地址： | 100085 北京市海淀区清河*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开是关于一种超景深效果成像方法、装置及电子设备。其中，上述超景深效果成像方法包括：获取图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息，根据所述光线信息获得待摄场景的第一图像。获取待摄场景的深度信息，根据所述深度信息确定至少两个成像子区各自对应的目标合焦深度位置。控制所述至少两个成像子区在平行于入射光线方向上朝向各自对应的所述目标合焦深度位置移动，以获得与所述第一图像对应的超景深效果图像。其中，所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变，上述反射电磁波信号随之发生变化，因此便于确定入射光线的光线信息。 | ||
| 搜索关键词： | 景深 效果 成像 方法 装置 电子设备 | ||
【主权项】：
一种超景深效果成像方法，其特征在于，包括：获取反射电磁波信号，所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成；其中，所述图像传感器包括若干成像子区，所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变；根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息，根据所述光线信息获得待摄场景的第一图像；获取待摄场景的深度信息，根据所述深度信息确定至少两个成像子区各自对应的目标合焦深度位置；控制所述至少两个成像子区在平行于入射光线方向上朝向各自对应的所述目标合焦深度位置移动，以获得与所述第一图像对应的超景深图像。
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