[发明专利]基片表面陷光结构的制备装置及其制备方法

摘要

基片表面陷光结构的制备装置及其制备方法，其中，基片表面陷光结构的制备装置，包括腐蚀槽，用于盛放腐蚀液及待腐蚀基片；光源，用于发射催化光；透光板，设置于腐蚀槽上方，具有周期性的孔隙，用于使催化光透过射入腐蚀槽；基片的表面在催化光的作用下，由腐蚀液腐蚀得到陷光结构。由于通过光催化进行腐蚀反应，相较于传统的通过陷光结构掩模板，能够实现陷光结构的量产化，相较于传统的划刻或简单的腐蚀方法，能够制备出纳米级别的陷光结构，从而能够极大的增大光接收面积，有效地实现抗反射，从而为太阳能电池和光电探测器效率的提升提供了技术启示。

主权项

一种基片表面陷光结构的制备装置，包括：腐蚀槽，用于盛放腐蚀液及待腐蚀基片；光源，用于发射催化光；透光板，设置于所述腐蚀槽上方，具有周期性的孔隙，用于使所述催化光透过射入所述腐蚀槽；所述基片的表面在所述催化光的作用下，由所述腐蚀液腐蚀得到所述陷光结构。