[发明专利]微影图案化的方法有效
| 申请号： | 201710827508.2 | 申请日： | 2017-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN108227392B | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 訾安仁;郑雅如;张庆裕;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/82 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;冯志云 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 根据一些实施例，本发明提供一种微影图案化的方法。该方法包括：形成光阻层于基底上方，其中光阻层包括含金属化学品；对光阻层实行曝光工艺；及使用第一显影剂对光阻层实行第一显影工艺，从而形成图案化光阻层，其中第一显影剂包括第一溶剂及化学添加剂，以移除由含金属化学品所产生的金属残余物。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微影图案化的方法，包括：形成一光阻层于一基底上方，其中该光阻层包括一含金属化学品；对该光阻层实行一曝光工艺；及使用一第一显影剂对该光阻层实行一第一显影工艺，从而形成一图案化光阻层，其中该第一显影剂包括一第一溶剂及一化学添加剂，以移除由该含金属化学品所产生的金属残余物。
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