[发明专利]光刻胶图案形成方法及压印模具有效
| 申请号： | 201710833137.9 | 申请日： | 2017-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN107357133B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 周婷婷;张斌;何晓龙 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/76;G03F1/54 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光刻胶图案形成方法及压印模具，方法包括以下步骤：在基底上涂覆光刻胶；通过压印模具对光刻胶进行压印，压印模具包括透光区和遮光区，透光区和遮光区之一为光刻胶固化覆盖区，光刻胶固化覆盖区设置有至少一个朝向光刻胶的凸起，凸起的宽度小于光刻胶固化覆盖区的宽度；对光刻胶进行紫外固化，以固化光刻胶固化覆盖区所覆盖的光刻胶；去除所述压印模具；去除未固化的光刻胶，形成光刻胶图案。通过遮光区、透光区以及凸起的设置，可以经过一次压印，就形成具有至少两层结构的光刻胶形状，坡度角更陡直，有利于灰化后的图形控制，且图形化精度高，其精度可以达到10nm级别。此外，采用上述方案还具有操作简单，节约成本的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 图案 形成 方法 压印 模具 | ||
【主权项】：
一种光刻胶图案形成方法，其特征在于，包括以下步骤：在基底上涂覆光刻胶；通过压印模具对所述光刻胶进行压印，所述压印模具包括透光区及遮光区，所述透光区和所述遮光区之一为光刻胶固化覆盖区，所述光刻胶固化覆盖区设置有至少一个朝向所述光刻胶的凸起，所述凸起的宽度小于所述光刻胶固化覆盖区的宽度；对所述光刻胶进行紫外固化，以固化所述光刻胶固化覆盖区所覆盖的所述光刻胶；去除所述压印模具；去除未固化的所述光刻胶，形成光刻胶图案。
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