[发明专利]低磨损碎片聚甲醛组合物及其所制备的硬盘滑轨在审
申请号: | 201710834211.9 | 申请日: | 2017-09-15 |
公开(公告)号: | CN107868392A | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | 林琪恩;张荣宝;纪宏谕 | 申请(专利权)人: | 铭异科技股份有限公司 |
主分类号: | C08L59/04 | 分类号: | C08L59/04;C08L71/02;C08K13/02;C08K3/22;C08K5/103;C08K5/098;C08K5/17;C08K5/42;C08K5/101;G11B5/48 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 韩蕾,姚亮 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种低磨损碎片聚甲醛组合物及以此聚甲醛组合物所制备的适用于各种硬盘设计的滑轨。本发明的聚甲醛组合物,包括具有1,3‑二氧戊环作为共聚单体的聚甲醛共聚物、耐磨剂、成核剂和抗静电剂。本发明的由聚甲醛组合物制成的滑轨,具有优异的低磨损性质。低磨损碎片聚甲醛组合物可用于制备许多不同硬盘设计的滑轨,例如PMR(垂直记录)+TDMR(二维磁记录)硬盘、SMR(迭瓦式磁记录)硬盘、HAMR+(HAMR(辅助磁记录)+SMR+TDMR)硬盘、BPMR+(BPMR(位元图案介质记录)+SMR+TDMR)硬盘和氦填充硬盘。 | ||
搜索关键词: | 磨损 碎片 甲醛 组合 及其 制备 硬盘 滑轨 | ||
【主权项】:
一种聚甲醛共聚物树脂,包含有:85~98重量百分比的聚甲醛共聚物,该聚甲醛共聚物中包含1.0~3.3重量百分比的1,3‑二氧戊环共聚单体;0.5~8.0重量百分比的耐磨剂,其平均粒径不大于100nm,所述耐磨剂选自无机耐磨剂及有机耐磨剂中的至少一种及其组合;0.1~3.0重量百分比的成核剂;以及0.5~5.0重量百分比的抗静电剂。
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