[发明专利]基板处理方法和基板处理装置

摘要

本发明提供能由有机溶剂良好地处理基板，并使基板良好地干燥的基板处理方法和装置。该方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；基板旋转工序，使基板以沿着铅垂方向的旋转轴线为中心旋转；液膜形成工序，向基板的上表面供给处理上表面的第一有机溶剂，在上表面形成第一有机溶剂的液膜；蒸气供给工序，向具有与基板的下表面相向的相向面的加热器单元的相向面和下表面之间的空间，供给第二有机溶剂的蒸气；基板加热工序，与基板旋转工序和液膜形成工序并行，由第二有机溶剂的蒸气加热旋转状态的基板；基板干燥工序，在基板加热工序后，从基板排除第一有机溶剂的液膜，使基板停止旋转，在将基板与加热器单元接触的状态下，使基板的上表面干燥。

主权项

一种基板处理方法，包括：基板保持工序，将基板保持为水平；基板旋转工序，使保持为水平的所述基板以沿着铅垂方向的旋转轴线为中心旋转；液膜形成工序，向保持为水平的所述基板的上表面供给用于处理所述基板的上表面的第一有机溶剂，从而在所述基板的上表面形成所述第一有机溶剂的液膜；蒸气供给工序，向具有与保持为水平的所述基板的下表面相向的相向面的加热器单元的所述相向面和，所述基板的下表面之间的空间，供给第二有机溶剂的蒸气；基板加热工序，与所述基板旋转工序和所述液膜形成工序并行，利用所述第二有机溶剂的蒸气加热旋转状态的所述基板；以及基板干燥工序，在所述基板加热工序后，从保持为水平的所述基板排除所述第一有机溶剂的液膜，使所述基板停止旋转，并且，在将所述基板与所述加热器单元接触的状态下，使所述基板的上表面干燥。