[发明专利]掩膜框架、掩膜版及其制作方法有效
| 申请号： | 201710852394.7 | 申请日： | 2017-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN107419219B | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 吴海东;李彦松;杜小波 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 王安娜;李翔 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜框架、掩膜版及其制作方法，包括框架主体、固定部、挤压装置和压力感应装置，所述固定部位于框架主体相对两侧的内部，所述挤压装置用于穿过所述框架主体并对所述固定部施加压力，所述压力感应装置用于感应挤压装置对固定部施加的压力。本发明通过挤压装置对固定部施加压力，从而对所述掩膜框架施加压力，并通过压力感应装置感应挤压装置对固定部施加的压力，以便于调整挤压装置所施加的压力大小，从而可以对不同位置的固定部施加合适的压力，避免掩膜条上的像素图像出现差异或者位置偏差的问题，进而提高形成的掩膜图案的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 掩膜版 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜框架，其特征在于，包括框架主体、固定部、挤压装置和压力感应装置，所述固定部位于框架主体相对两侧的内部，所述挤压装置用于穿过所述框架主体并对所述固定部施加压力，所述压力感应装置用于感应挤压装置对固定部施加的压力。
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