[发明专利]边缘保护板、边缘保护组件以及用于处理基板的设备有效

专利信息
申请号: 201710866327.0 申请日: 2012-04-25
公开(公告)号: CN107452592B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: S·辛格;G·J·斯科特;A·萨布哈瓦尔;A·库玛 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;金红莲
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 公开了边缘保护板、边缘保护组件以及用于处理基板的设备。本发明的实施例大体上关于用等离子体蚀刻基板的方法与设备,更详言之,关于保护受处理的基板的边缘、侧边及背面的方法与设备。本发明的实施例提供一种边缘保护板,该边缘保护板具有通孔,该通孔在尺寸上小于受处理的基板,其中该边缘保护板在等离子体腔室中可定位在紧密接近基板处。该边缘保护板重叠基板上的边缘及/或侧边,以便向基板的边缘、侧边、及背面上的反射涂层提供保护。
搜索关键词: 边缘 保护 组件 以及 用于 处理 设备
【主权项】:
1.一种用于处理腔室的边缘保护板,所述处理腔室包括支撑组件,所述支撑组件包括抬高部分以用于在处理期间支撑受处理的基板,所述边缘保护板包括:碟状主体,具有至少六英寸的外径;通孔,穿过所述碟状主体的中心部分形成,所述通孔具有矩形形状;以及多个贯孔,沿着所述碟状主体的周围形成并且配置成容纳离子自由基遮蔽件的多个支撑脚架,其中,所述通孔对准所述抬高部分并向处理气体提供受限制的路径,所述路径导引所述处理气体向下朝向所述抬高部分,从而控制所述基板对等离子体的暴露。
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