[发明专利]使用嵌段共聚物形成精细图案的方法有效
申请号: | 201710869088.4 | 申请日: | 2017-09-22 |
公开(公告)号: | CN107868194B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 咸珍守;郑连植;金善英;许允衡;李光国;宋承垣 | 申请(专利权)人: | SK新技术株式会社;韩国科学技术院 |
主分类号: | C08F293/00 | 分类号: | C08F293/00;C08F220/14;C08F212/08;C08F212/14;G03F7/00;G03F7/09;G03F7/16;G03F7/40;G03F7/42;H01L21/027;H01L21/033;H01L21/308;H01L21/311;H01L2 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王朋飞;张晶 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明提供了一种形成精细图案的方法,该方法通过使用具有优异蚀刻选择性的嵌段共聚物而能够最小化LER和LWR,从而形成高质量纳米图案。本发明提供了一种嵌段共聚物,其包含具有由以下化学式1表示的重复单元的第一嵌段和具有由以下化学式2表示的重复单元的第二嵌段:[化学式1] |
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搜索关键词: | 使用 共聚物 形成 精细 图案 方法 | ||
【主权项】:
一种形成精细图案的方法,其包括:排列涂覆在待图案化的基板上的嵌段共聚物;以及选择性地去除经图案化的嵌段共聚物的任一种单元嵌段,其中所述嵌段共聚物包括具有由以下化学式1表示的重复单元的第一嵌段和具有由以下化学式2表示的重复单元的第二嵌段:[化学式1][化学式2]其中,R1‑R4独立地选自‑H、具有1‑10个碳原子的烷基、具有2‑10个碳原子的烯基、具有2‑10个碳原子的炔基、卤素、氰基、具有1‑10个碳原子的烷氧基、具有1‑10个碳原子的烷硫基、具有1‑10个碳原子的烷基羰基和具有2‑10个碳原子的烯基羰基;R5选自‑H、具有1‑10个碳原子的烷基、具有3‑10个碳原子的环烷基、具有2‑10个碳原子的烯基、具有3‑10个碳原子的环烯基、具有2‑10个碳原子的炔基、具有2‑10个碳原子的含有选自O、N和S中的任一个或两个以上的杂原子的杂环烷基、具有6‑20个碳原子的芳基、具有4‑20个碳原子的含有选自O、N和S中的任一个或两个以上的杂原子的杂芳基、卤素、氰基、具有1‑10个碳原子的烷氧基、具有3‑10个碳原子的环烷氧基、具有6‑20个碳原子的芳氧基、具有1‑10个碳原子的烷硫基、具有3‑10个碳原子的环烷硫基、具有6‑20个碳原子的芳硫基、具有1‑10个碳原子的烷基羰基、具有2‑10个碳原子的烯基羰基、具有6‑20个碳原子的芳基羰基、具有3‑10个碳原子的环烷基羰基和具有3‑10个碳原子的环烯基羰基;X1‑X5独立地选自‑H、‑F、具有1‑10个碳原子的被至少一个F取代的烷基、具有3‑10个碳原子的被至少一个F取代的环烷基和具有6‑20个碳原子的被至少一个F取代的芳基,条件是X1‑X5不都是‑H;以及在所述嵌段共聚物中,当由上述化学式1和化学式2表示的所述嵌段共聚物中的重复单元A、B和C的摩尔分数分别为l、n和m时,l为0.2‑0.9,n为0‑0.6,m为0.01‑0.7,并且l+n+m=1。
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