[发明专利]涂敷、显影方法和涂敷、显影装置有效
| 申请号： | 201710874335.X | 申请日： | 2017-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN107870521B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 川上真一路;水之浦宏 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;梁霄颖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明在对形成在基板的正面的含有金属的抗蚀剂膜进行显影时、在基板涂敷含有金属的抗蚀剂而形成抗蚀剂膜且对曝光后的该抗蚀剂膜进行显影时，抑制金属附着到基板的周端面和背面侧周缘部。本发明的涂敷、显影方法包括：在基板(W)的正面涂敷含有金属的抗蚀剂(74)而形成抗蚀剂膜(71)，对该抗蚀剂膜(71)进行曝光的步骤；对上述基板的正面供给显影液(77)而对上述抗蚀剂膜(71)进行显影的显影步骤；和在上述显影步骤前，在没有形成上述抗蚀剂膜的基板(W)的周缘部、至少在周端面和背面侧周缘部形成防止与上述显影液(77)接触的保护膜(72)的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 涂敷 显影 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种涂敷、显影方法，其特征在于，包括：在基板的正面涂敷含有金属的抗蚀剂而形成抗蚀剂膜，对该抗蚀剂膜进行曝光的步骤；对所述基板的正面供给显影液而对所述抗蚀剂膜进行显影的显影步骤；和在所述显影步骤前，在没有形成所述抗蚀剂膜的基板的周缘部、至少在周端面和背面侧周缘部，形成防止与所述显影液接触的第一保护膜的步骤。
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