[发明专利]磁盘用铝合金坯体和磁盘用铝合金基片在审
| 申请号： | 201710883609.1 | 申请日： | 2017-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN107893179A | 公开（公告）日： | 2018-04-10 |
| 发明（设计）人： | 寺田佳织;梅田秀俊 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | C22C21/06 | 分类号： | C22C21/06;C22F1/047;G11B5/73 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种表面缺陷难以发生，可形成平滑的表面的镀膜的磁盘用铝合金坯体和磁盘用铝合金基片。磁盘用铝合金坯体和磁盘用铝合金基片中，含有Mg3.5～6.2质量％，并在满足Ti0.0005～0.0020质量％、V0.0005～0.0020质量％、Zr0.0002～0.0020质量％、以及关系式Ti+V+Zr≤0.0020质量％的范围内，含有Ti、V和Zr之中的至少一种，余量由Al和不可避免的杂质构成，表面的Al－(Ti,V,Zr)系金属间化合物的绝对最大长度为1μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 铝合金 | ||
【主权项】：
一种磁盘用铝合金坯体，其中，含有Mg：3.5～6.2质量％，并在满足Ti：0.0005～0.0020质量％、V：0.0005～0.0020质量％、Zr：0.0002～0.0020质量％、以及关系式：Ti+V+Zr≤0.0020质量％的范围内，含有Ti、V和Zr之中的至少一种，余量由Al和不可避免的杂质构成，表面的Al－(Ti,V,Zr)系金属间化合物的绝对最大长度为1μm以下。
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