[发明专利]一种液态石墨烯应用于GaN基材料及器件的方法在审
申请号: | 201710887677.5 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN107808819A | 公开(公告)日: | 2018-03-16 |
发明(设计)人: | 孙晓娟;黎大兵;贾玉萍;刘贺男;宋航;李志明;陈一仁;缪国庆;蒋红;张志伟 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/3205 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙)22210 | 代理人: | 南小平 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种液态石墨烯应用于GaN基材料及器件的方法,属于半导体技术领域。本发明的液态石墨烯应用于GaN基材料及器件的方法通过液态石墨烯滴定或者旋涂的方式实现将石墨烯应用于GaN基光电子和微电子器件,石墨烯既可以作为GaN基器件的接触电极,又可以作为光吸收层或电流传导层。本方法操作简单,重复性强,避免传统石墨烯转移的损伤问题;并且可以通过光刻的方式,实现转移后的石墨烯尺寸可控,实现石墨烯与GaN基材料相结合,优化及拓展GaN基光电子和微电子器件的性能。本发明提供的利用液态石墨烯转移石墨烯的方法,为石墨烯应用于GaN基材料及器件,实现石墨烯与GaN基材料相结合提供了新思路。该方法还具有工艺简单,效果显著,应用前景广阔的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 液态 石墨 应用于 gan 基材 料及 器件 方法 | ||
【主权项】:
一种液态石墨烯应用于GaN基材料及器件的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、生长GaN基材料;步骤2、配置石墨烯溶液;步骤3、在GaN基材料表面界定石墨烯窗口;步骤4、通过旋涂或者滴定的方式,将步骤2配置的石墨烯溶液滴加到GaN基材料表面界定石墨烯窗口中;步骤5、挥发溶剂,实现基于石墨烯的GaN基器件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710887677.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种柔性电容器的制备方法
- 下一篇:层叠晶片的加工方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造